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首页 >> 材料加工 >> 制膜 >> 原子层沉积（ALD）
原子层沉积（ALD）
    发布时间: 2025-02-13 18:23    

芬兰Picosum SunaleTM R-series



已测试50次

收到样品后平均8.4工作日完成

96.3%对测试结果满意

原子层沉积（ALD）

96.3%

满意度

仪器型号：

芬兰Picosum SunaleTM R-series

预约次数：

50次

服务周期：

收到样品后平均8.4工作日

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